[技術間諜] ⑤ 將國家機密一點點存入中國伺服器……竊取半導體技術的“三星人”的終局

[비즈한국] 技術往往被裝在某人下班路上的揹包裡，靜悄悄地跨越國境。幾十年來積累的研究成果和國家戰略技術，就這樣被裝進幾頁列印件或USB儲存棒中消失了。雖然每年都有數十起技術外洩事件被查獲，但全貌往往只露出冰山一角。Bizhankook透過四部曲專題報道《技術間諜》，根據真實案件重構了技術外洩的瞬間。

2022年3月，池洙煥（音）室長正坐在京畿道廣州市的一間辦公室裡審閱專案概要。

這是一個接受中國公司投資、開發爐管（Furnace）裝置的專案。爐管裝置是半導體制造工藝中，透過原子層沉積（ALD）工藝一層層疊加原子層的核心裝置。作為向韓國主要半導體企業供貨的高價裝置，單臺價格高達數十億韓元。

池室長與中國結緣是在6年前。他在韓國主要半導體企業工作了21年，離職1年後，於2016年前往合肥。作為安徽省省會，合肥是當時中國政府欽點的半導體崛起據點。池室長在那裡擔任了明微儲存（Yuming Memory Tech）的DRAM開發室長。明微是一家打著儲存半導體製造商旗號、背靠鉅額國家資本成立的公司，堪稱中國半導體崛起的象徵。

中國亟需自主開發爐管裝置的能力。明微的目標是開發17~18奈米DRAM工藝。對於從零開始鋪設韓國企業投入數萬億韓元才完成的路徑，時間顯然不夠。

這是一個保守估計也達數百億韓元的專案。池室長知道捷徑。他拿起了電話。

接到電話的人之一是梁大元（音）組長。他曾在韓國某A裝置公司擔任ALD裝置機械設計的負責人。“一起幹吧。”建議很直接。隨之而來的是高額年薪的提議。他和團隊成員南正國（音）加入了。B裝置公司的申東植（音）、C裝置公司出身的朱鎮日（音）也加入了進來。雖然他們來自不同公司，但完成一臺裝置所需的所有拼圖都湊齊了。

機構、電裝、工藝。

他們聚集的地方是上海新成立的半導體裝置企業——信勝有限責任公司。這是中國投資方“富盛”與池室長方面協商成立的半導體裝置開發公司。所開發技術的最終目的地是明微儲存。正是6年前池室長擔任DRAM開發室長的那家公司。

“信”專案具體化了。池洙煥擔任副總經理，梁大元擔任機械組長，南正國、朱鎮日擔任機械組成員，吳成勳（音）擔任電裝組長。

起初看起來還在劃清界限。“不能用韓國的資料。”

但要求變了。“參考一下就行。”

2022年5月的一天晚上，京畿道利川市A裝置公司辦公室。梁組長把團隊成員南正國叫過來，指示列印圖紙。印表機開始運轉。這是A裝置公司從2016年起投入100多億韓元開發出的ALD裝置“Falcon”的模組製造及組裝圖紙。其中包含了用什麼化學物質、在什麼溫度和壓力下、以什麼順序疊加原子層的設計資訊。這是A裝置公司近10年來積累的核心技術，也是被指定為國家尖端技術的資產。

兩人分擔著1120頁的列印件走出了辦公室大門。梁組長的汽車後備箱蓋合上了。

外洩不止一次。

梁組長在離職前將資料單獨收集起來。130張FIMS單元圖紙，3200多個零件的BOM（物料清單）。包含了成本、材質、交易物件等資訊的列表。

吳成勳也整理了電裝設計。參與專案的人員各自所屬的公司裡，這項工作都在悄悄重複。資料雖然被拆解成了碎片，但聚在一起就是一臺完整的裝置。

就在信勝協議敲定後不久。2022年9月，池洙煥在家中開啟了NAS伺服器。這是一個構建在韓國境內的儲存庫，只要連線網際網路，在任何地方都能訪問。這臺伺服器原本打算作為中國信勝開發團隊全員共享的資料倉庫。

資料夾的名字很簡單，“韓國資料保管”。不僅有用於信勝裝置開發的資料，還有6年前在合肥時期就保管的前公司的DRAM工藝資料。那是將韓國半導體公司的工藝流程圖用手抄寫在筆記本上偷運出來的檔案，以及用智慧手機拍攝顯示器螢幕製成的檔案。這些都是被指定為國家核心技術的工藝資訊。從A裝置公司偷出的圖紙也陸續上傳。兩股資料在同一臺伺服器內匯合。中國企業所需的技術將透過這條路徑傳輸出去。

2023年1月，上海信勝辦公室。

梁組長給外部合作商發了郵件。“這是基於A裝置公司的資料。請務必保密。”

南正國以此為基礎，重新繪製了信勝裝置的圖紙。相似的結構，類似的佈局。只是名字換了。現在，裝置變成了“新開發的”。

內部已經意識到了危險。池洙煥問熟人。

“這會有問題嗎。”

在得到回答之前，他其實心裡早就有了答案。

他在另一條訊息中留下了這樣的話。

“小心點，別觸犯《產業技術保護法》。”

異常跡象留下了記錄。列印記錄。檔案移動痕跡。電子郵件收發記錄。

每一項雖然都是碎片，但連在一起就成了完整的脈絡。

國家情報院基於情報捕捉到異常跡象是在2023年春天。檢察機關在接到國情院的調查委託後，順藤摸瓜。獲取的資料有一個共同點。

結構相同，排列相似。這根本不是“新做的設計”。

信勝專案停擺了。

半導體工藝及裝置技術外洩至中國案件的始末

此紀實內容重構了2016年至2023年間，在三星電子005930和Eugene Technology084370等半導體裝置協作企業中發生的技術外洩事件。三星電子前部長、被告A某在2016年跳槽至中國長鑫儲存（CXMT）的過程中，竊取了三星電子的DRAM半導體工藝資訊；在2021年返回韓國後，自次年起與Eugene Technology前組長等人共謀，竊取了半導體裝置協作企業的ALD裝置設計技術，企圖提供給CXMT。

以組織了與中國投資方合作的半導體爐管裝置開發專案的A某為中心，包括Eugene Technology等協作企業的被告們，各自將所屬公司在職期間的圖紙列印並帶出，隨後在韓國構建了NAS（網路附加儲存）伺服器，上傳資料並與中國信凱有限責任公司（Xinkai，此處對應文中的信勝）開發團隊共享。NAS伺服器是為了防止在機場安檢時被查出資料而構思的方式。後來，直接購買並構建該伺服器的信凱內部人士將伺服器資料任意提交給檢察機關，成為了調查的突破口。

在調查過程中，還查明瞭當時三星電子前職員透過將工藝流程圖（PRP）手工抄寫在筆記本上帶出，或用智慧手機拍攝顯示器螢幕的方式竊取資料的事實。屬於30奈米級以下的DRAM設計、工藝、器件技術以及3D堆疊形成技術，是2016年被產業通商資源部指定為國家核心的技術。

在Eugene Technology，也發生了擅自列印並帶走1120張ALD裝置模組製作及組裝圖紙，以及包含130張FIMS單元圖紙和3200多個零件的成本、材質、交易物件資訊的BOM資料被外洩的損失。隨後的調查顯示，信凱開發團隊直接參考了Eugene Technology的圖紙，以重新繪製信凱裝置設計圖的方式利用了該技術。

在審判過程中，一審和二審法院認為共同正犯之間進行商業秘密上傳至NAS伺服器的行為包含在商業秘密的“使用”之中，因此判定“洩露”指控不成立。但今年年初，大法院裁定商業秘密洩露應視為與使用不同的獨立犯罪，將案件發回首爾高等法院重審。這一判斷被評價為具有重大意義，因為它明確擴大了對透過NAS伺服器或雲端等數字路徑進行技術共享行為的處罰範圍。

發回重審的首爾高等法院刑事10-1部上月23日額外認定洩露指控有罪，判處被告A某有期徒刑6年4個月及罰金2億韓元。刑期比二審增加了4個月。一同被起訴的Eugene Technology前職員、被告B某也被追加判處有期徒刑3個月。B某此前已因違反《產業技術保護法》等嫌疑被判處2年6個月有期徒刑。

重審審判部指出：“被告的行為使投入到DRAM半導體開發中的鉅額時間和成本付諸東流，嚴重破壞了市場交易秩序，可能對國家競爭力產生負面影響。”並判決稱：“不正當獲取三星電子的商業秘密並在中國使用，性質極其惡劣，如果對侵害商業秘密犯罪懲處過輕，那麼耗費長期時間和資金研發出的技術將失去意義。”

三星電子表示，公司將半導體核心技術視為必須從國家和客戶層面進行管理的物件，而非僅限於公司內部。主要技術依據《產業技術保護法》和《國家尖端戰略產業法》進行保護，並每年透過定期審計檢查安全系統的有效性。此外，還制定了專門的國家核心技術安全管理指南，並設立高管負責制，執行最終審批技術保護措施的體系。包含客戶相關資訊的郵件透過郵件過濾服務自動攔截髮送至外部。在客戶資訊保安方面，簽署保密協議（NDA），僅允許限定的負責人訪問。

Eugene Technology相關人士表示：“對於半導體裝置企業來說，技術安全與生存直接相關。我們進一步強化了設計圖紙的訪問許可權管理和列印記錄監控。技術外洩不僅僅是簡單的資訊侵權，更是損毀多年研究成果和公司整體競爭力的行為。”